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また新たな次期「iPhone8」の図面がリーク!また「Touch ID」の場所が違う。

先日から、プロトタイプの図面や、手書きの図面が公開されるなど、何かと話題の多い次期「iPhone8」ですが、今回また新たな図面がリークされたのでまとめたいと思います。事前情報の詳細は、「次期「iPhone8」の詳細な設計図がリーク!やはり背面に「Touch ID」が!?」をご参照下さい。

 

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新たな「iPhone8」の図面が公開に!

 

Apple関連の情報に精通しているSonny Dickson氏が、次期「iPhone8」とみられる図面を公開しています。この図面を確認する限り、まず「Touch ID」の場所が、Appleのロゴの真下あたりに移動していることが確認できます。

先日の情報ではようやく、次期「iPhone8」がDVTの段階に移行したとされていますが、「Touch ID」の場所は分からないとしています。詳細は、「ようやく次期「iPhone8」のデザインが確定か!?」をご参照下さい。一方で、「Touch ID」は液晶に統合しようとしているが、そのために発売時期が遅延するという情報もあれば、「Touch ID」自体が廃止になるという情報もあり、情報がかなり錯綜しています。

また、今回の図面を確認してみると、充電規格は、噂されている「USB-C」ではなく、「Lightning」が搭載されているのが確認でき、また背面においては、「垂直型」の「デュアルレンズカメラ」が搭載されていることが確認できます。

現時点では、カメラを「垂直型」にするメリットが判然としませんが、先日の情報では、本体を横向きにした場合、「VR」撮影ができるのではないかと予測されています。

さらに、現行の「iPhone7」シリーズのように、本体側面が丸みを帯びていなく、「iPhone5」シリーズのようにフラットな形状になっています。ただ、先日の情報では、前面、背面共に「ガラス」となり、サイドを「ステンレスフレーム」で囲むとされていますが、今回の図面では確認することができません。

 

また本体サイズが、「149.5mm×72.4mm」と、先日リークしたプロトタイプのサイズと同じになっています。先日公開されたレンダリング画像とは、サイズが異なり、また、Sonny Dickson氏の実績を考えれば、こちらのほうが信憑性が高いと考えられます。

 

 

最後に

情報が錯綜しまくっている次期「iPhone8」ですが、これだけ図面のリーク情報がでてくるということは、いよいよ製造段階に近いと考えられます。「iPhone8」は、爆発的な需要に耐えるために、「6月」から少量生産を始めるという情報もあります。実際に生産が始まれば、今度は写真がリークする可能性が高いと考えられます。

 

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