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次期「iPhone8」の詳細な設計図がリーク!やはり背面に「Touch ID」が!?

先日の情報では、新型「Touch ID」の開発・製造が難航しており、「iPhone8」自体の発売が遅れるとされています。このことからも、Appleは妥協案として、「Touch ID」を背面に移す可能性があるとされていますが、今回、次期「iPhone8」の詳細な設計図がリークしたのでまとめたいと思います。前回リークした手書きの設計図に関しては、「次期「iPhone8」の設計図がリークか!?」をご参照下さい。

 

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次期「iPhone8」の設計図がリーク!

 

9to5Macによると、中国のWeiboに、Foxconnの関係者から、次期「iPhone8」の設計図を捉えた写真が投稿されていたことを報告しています。今回の写真から、9to5Macは、画像の右側にある「EVT03」は、Engineering Validation Test(技術検証試験)用の3番目の試験機を意味している、と指摘しています。EVTの後に、デザイン検証試験(Design Validation Test)の段階を経て、設計が確定します。

事前情報では、複数のプロトタイプが存在しており、次期「iPhone8」の関する確定要素のほとんどが決まっていないとされていました。詳細は、[悲報」iPhone8の今までのリーク情報はプロトタイプの1つに過ぎない!」をご参照下さい。しかし、最新の情報では、プロトタイプの選定は最終段階となっており、大きく2つのプロトタイプに分かれていると予測されています。

この2つのプロトタイプの主な違いは、「Touch ID」の搭載場所です。一つ目は、「Touch ID」が事前情報通り、「液晶」に統合されているモデルです。詳細は、「「iPhone8」に搭載される「Touch ID」は自動認証か!?」をご参照下さい。そして2つ目が上記の写真である「Touch ID」が、本体「背面」に統合されているモデルであります。

 

最後に

今回リークした写真は、様々なプロトタイプの一つの設計図がリークしたとも考えられますが、リークした時期と、事前情報を考慮すれば、この写真に記載されている設計図が、実際の製品版として登場してもおかしくはありません。また、仮にこの設計図通りに製品化された場合、垂直型のカメラの搭載など、わずかなデザインの違いがあれど、おおまかイメージとしては、「Galaxy S8」と似たものとなってしまいます。個人的には、「Galaxy S8」の後追いにはなってほしくないと思います。

 

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